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多功能台式微纳米芯片点阵仪 ------(蛋白质/DNA/抗原/抗体/脂质体等) NLP 2000系统是一个用户界面友好并且简单方便的台式纳米加工平台,可以以亚微米级别的精确度和分辨率将多种材料点印到基底模板上。整合MEMS和沉积技术到NLP 2000系统的点印和自动化软件之中,用户可以在几十分钟内随意创造出自定制化的图案。NLP 2000可以很好地应用于微纳米芯片的大面积点印沉积。NLP 2000的原理基于Dip Pen Nanolithography(蘸水笔纳米刻蚀技术),是第一个能够在大的基底表面点印亚微米图案的系统。由于点印的团的大小可以从100 nm到10uM以上,NLP 2000给纳米加工刻蚀技术带来前所未有的方便。NLP 2000可以提供1-10微米的点印,使它成为纳米工程和生物材料的领域的理想工具,例如: 多重蛋白质点印 生物芯片功能化 细胞微米/纳米图案研究 聚合物点印,包括乙二醇和丙烯酸 特点和优势 除了可以点印多种材料的纳米/微米图案之外,NLP 2000的优点还有: 快速点印多种成分的团,分辨率在1-10微米 自动化,精确,同一平面的点印区域可达到40mm ×40mm 微米结构的材料的功能化加工 通过高倍分辨率的光学显微镜 & 环境腔进行过程检测和控制 用户友好的软件 材料点印的标准流程 标准配置 NLP2000 系统主机,光学部分,控制器 M-型多探针阵列。储液池,基底板 快速启动说明,用户操作手册,CD 一年保修,配件和人力 环境控制腔 整合的隔震台 延迟的有限质保,1年 大区域、全自动、精确的点印 除了一个大的40mm × 40mm XY平台之外,NLP 2000系统包括基本培训之后用户快速点印大的表面的所需要的所有软硬件。NLP 2000 配置的3个压电驱动的线性位移台(XYZ)和2个角位台 Goniometer Stage(Tx和Ty)确保了大区域精确快速点印的稳定性。全自动的调平控制系统,标准的点印规则,以及软件脚本处理使NLP 2000系统可以简单、自动、可控的完成长时间点印。 微结构的功能化 通过使用NLP 2000系统的高分辨率平台,亚微米光学分辨率和样品点印界面,科学家可以简单方便的功能化传感器,阵列传感器,微接触印刷印章,微流体设备,或者其他预装配的微结构。 可控地点印环境 为了全面的监控和控制点印过程,NLP 2000 系统配置了高分辨率的光学显微镜和环境控制腔,以及隔震台。整合的环境控制腔可以是用户控制和记录温度,湿度和其他参数,用于实时或者后续的分析和校准。此外,NLP 2000 还可以兼容市场上的主动和被动的各种防震台。 点印的材料和基底:NLP 2000 系统可以点印和成像多种分子材料和液体到不同的基底材料,黏度范围可以从1-20000 cP。 点印的材料 ☆ 蛋白质 ☆ 核酸 ☆ 抗原 ☆ 脂质体 ☆ 纳米颗粒 ☆ 聚乙二醇 ☆ UV-固化的多聚体 ☆ 热-固化的多聚体 ☆ 甘油 ☆ 硅烷 兼容的基底 ☆ 硅 ☆ 二氧化硅 ☆ 硅烷化表面 ☆ 氨基活化的玻片 ☆ 金属 ☆ PDMS ☆ 水凝胶 ☆ 聚苯乙烯 ☆ 催化剂 ☆ 硫醇 |
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